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產品技術
集成電路
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統采用創新的批量型(mini-batch)腔體設計,可一次處理25片12英寸晶圓,適用于成膜鍍率低,厚度要求高,以及產能要求高的關鍵工藝及應用。iTomic? MW系列產品利用特有的流場設計,具有成膜速度快,占地面積小,產能高、使用成本低等優勢,為存儲芯片以及Micro-OLED顯示器、MEMS等提供定制化量產的解決方案。
銷售郵箱
產品特點
25片12寸晶圓(兼容8寸晶圓)MW ALD系統,適用于厚膜或生長率較低的工藝需求
1
提供優異的薄膜片內(WiW)和片間(WtW)均勻性,更好地滿足客戶工藝需求
2
薄膜材料:Al?O?、HfO?、SiO?等
3
與爐管型設備相比,MW ALD系列在減少顆粒度的同時大大降低了熱過程,避免芯片器件在制程中的熱損傷
4
特別適用于高產能、超高深寬比結構器件的量產化鍍膜工藝
5
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