集成電路
iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)，適用于客戶制程高介電常數(shù)（High- ?? ）柵氧層、MIM電容器絕緣層、TSV介質(zhì)層等薄膜工藝需求；ALD系列設(shè)備憑借原子級別的精確控制、沉積薄膜的高覆蓋率和超薄膜厚的均勻性可為邏輯芯片、存儲芯片提供介質(zhì)層等關(guān)鍵工藝解決方案，技術(shù)和設(shè)備指標(biāo)達(dá)到國內(nèi)一流、國際先進(jìn)水平。
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